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低能离子注入机
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科研非标定制设备
详细介绍
一、
概述
该低能离子注入机可以通过离子源产生超低能量的离子束,在经过二极磁铁偏转之后,过滤掉不同荷质比的离子,
只留下所需的离子种类和能量的离子束可以穿过。束流在靶室位置的束流强度符合石墨烯等二维材料的注入特性。
二、
设备主要技术参数
辐照区域
5*5cm
能量范围
100eV-2keV
束流强度
均匀区域平均束流强度为几十nA
离子能量选择
电磁铁控制偏转,
离子种类
Ar+,He+,N+,H+,O+ (P+可选)
极限真空度
<1E-4Pa
工艺真空范围
5E-4Pa~5E-3Pa
真空漏率
≤6.6×10
-7
Pa.l/S
工作电源
380v±5% 50HZ
产品展示
半导体系列
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科研非标定制设备
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