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扩散炉
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半导体系列
详细介绍
闭管软着陆扩散系统Closed Tube & Soft Landing Diffusion Furnace
产品介绍 Product Introduction
◆闭管磷扩散、硼扩散,带有工艺废气冷却定向回收装置,工艺废气集中收集从尾部定向排出;工艺气体可采用喷淋方式引入到石英管内。
闭管扩散方式工艺过程完全不受外界环境干扰,工艺质量完全受控。
◆自动控制温度过程及工艺过程,全部采用进口优质产品。
◆送取片方式:精心设计制造的软着陆装置,全数字化控制,性能更加稳定可靠,其特点平稳可靠、无爬行、SiC浆实现免清洗、
定位准确、承重量大、使用寿命长。
主要技术指标
工作温度
600-1100℃
恒温区长度:
1400mm
温区精度(静态闭管测试)
800℃<工作温度<1100℃:±0.5℃
600℃≤工作温度≤800℃:±1℃
单点温度稳定性(静态闭管测试)
800℃<工作温度<1100℃:±0.5℃/24h
600℃≤工作温度≤800℃:±1℃/24h
温度斜变能力
最大可控升温速度:(600-1100℃)15℃/min;
最大可控降温速度:(1100~600℃)8℃/min
气体流量设定精度
±1%FS
气路系统气密性
1×10
-7
Pa.m³/S
自动送料装置行程
~2000mm,速度:5~1000mm/min,SiC浆承重:20kg
装片数量
540片/管(槽间距:4.76mm) 1050片/管(槽间距:2.38mm)
净化台洁净度
100级(10000级厂房)
三相五线制度
380V±10%,50Hz±10%Hz
冷却水
2~4Kgf/cm²,-8L/min
1管、2管、3管、4管、5管分别可选;自动装载机械手可选,设备性能、工艺性能可与进口设备媲美。
产品展示
半导体系列
太阳能系列
科研非标定制设备
工业热处理设备
尾气处理与管路工程
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