石墨烯、碳纳米管材料CVD设备

石墨烯、碳纳米管材料CVD设备
石墨烯、碳纳米管材料納米材料CVD设备 Graphene 、Nano-materials CVD

产品介绍 
该设备主要用于石墨烯、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

主要技术指标

结构型式	卧式，单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸	2-8″
送取片方式	自动悬臂石英推拉舟，配合手动取、放片方式。
最高温度	1050℃
工作温度	400℃~850℃连续可调
单点温度稳定性	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
系统极限真空度	优于1Pa
抽速	抽至极限真空时间＜15Min
工作压力范围	5Pa到1×105Pa连续可调
供电电源	三相五线380V±10%，50Hz
冷却水	2~4Kgf/cm²，8L/min;